陽(yáng)極氧化設備如何去除處理后氧化層

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噴砂處理：鈦鑄件噴砂處理一般選用白剛玉。噴砂處理的壓力小于非貴金屬，一般控制0.45MPa以下。因為當注射壓力過(guò)高時(shí)，砂粒沖擊鈦表面產(chǎn)生強烈火花，溫度升高會(huì )與鈦表面發(fā)生反應，形成二次污染，影響表面質(zhì)量。時(shí)間為15~30秒，只去除粘砂、燒結層和鑄件表面的一部分和一部分 陽(yáng)極氧化設備只是一層而已。其余的表面反應層結構應通過(guò)化學(xué)酸洗快速去除。酸洗：酸洗能快速、徹底地去除表面反應層，表面不會(huì )被其他元素污染。Hf-hcl和Hf-hno3酸洗液可用于鈦的酸洗，但Hf-hcl酸洗液吸氫較多，Hf-hno3酸洗液吸氫較少。通過(guò)控制硝酸的濃度來(lái)降低氫氣的吸收，并對表面進(jìn)行拋光。HF的濃度一般3%～5%左右，HNO3的濃度一般15%～30%左右。
化學(xué)拋光：金屬化學(xué)介質(zhì)中進(jìn)行化學(xué)拋光 陽(yáng)極氧化設備還原反應達到平整和拋光的目的。該方法的優(yōu)點(diǎn)是化學(xué)拋光與金屬硬度無(wú)關(guān)，拋光面積與結構形狀無(wú)關(guān)。所有與拋光液接觸的零件都經(jīng)過(guò)拋光，不需要特殊的復雜設備。操作簡(jiǎn)單，更適用于結構復雜的鈦義齒托槽的拋光。但化學(xué)拋光的工藝參數難以控制，要求不影響義齒精度的前提下，對義齒進(jìn)行良好的拋光。HF是一種還原劑，能溶解鈦，起到整平作用。HF的濃度為10%，HNO3起到整平作用 陽(yáng)極氧化設備為防止鈦過(guò)度溶解和吸氫。